6月16日，據(jù)彭博社報道稱，德克薩斯州聯(lián)邦陪審團日前作出一項裁決，三星電子因侵犯韓國技術(shù)學院（Korea Advanced Institute of Science and Technology）一項專利技術(shù)，為此需向后者支付高達4億美元的賠償。

據(jù)悉，韓國技術(shù)學院曾發(fā)起訴訟，指控三星電子侵犯了其鰭片晶體管技術(shù)（FinFET）制程工藝相關(guān)的專利技術(shù)。三星起初對韓國技術(shù)學院的研究不屑一顧，認為該技術(shù)只是一種潮流技術(shù)。但在其對手——英特爾公司開始向這項技術(shù)的發(fā)明者取得許可授權(quán)時，圍繞三星是否侵權(quán)的力量博弈發(fā)生了改變。隨著芯片產(chǎn)品制程的縮小，鰭片晶體管技術(shù)能夠提高芯片性能，同時降低芯片功耗。

作為全球最大的芯片制造商，三星向陪審團表示，它與韓國技術(shù)學院合作開發(fā)了這項技術(shù)，并否認侵犯了相關(guān)專利技術(shù)。三星還對這項專利的有效性提出了質(zhì)疑。

三星的這一侵權(quán)行為被裁定為“故意為之”，或“有意為之”，這意味著法官可以將三星所需支付的賠償金額增加到陪審團規(guī)定的三倍。

這項技術(shù)被認為是生產(chǎn)智能手機處理器的關(guān)鍵。GlobalFoundries和三星利用了這一技術(shù)來制造芯片。而作為最大的手機芯片制造商，高通則是兩家公司的客戶。上述公司對此判決提出了聯(lián)合辯護。

這一事件標志著韓國頂級研究型科學與工程機構(gòu)——韓國技術(shù)學院與三星這家對該國經(jīng)濟至關(guān)重要的公司之間展開的沖突。雙方律師均拒絕對判決發(fā)表評論。