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新三板創(chuàng)新層公司納晶科技新增發(fā)明專利信息授權(quán):“一種核殼量子點(diǎn)及其制備方法、量子點(diǎn)光電器件”

2022-03-01 08:54:07

每經(jīng)訊,據(jù)啟信寶,新三板創(chuàng)新層公司納晶科技(830933)新增專利信息,專利權(quán)人為納晶科技,發(fā)明人是周健海、余世榮。專利授權(quán)日為2022年1月18日,專利名稱為“一種核殼量子點(diǎn)及其制備方法、量子點(diǎn)光電器件”,專利類型為中國(guó)發(fā)明專利,專利申請(qǐng)?zhí)枮镃N201910682166.9。

該專利摘要顯示:本發(fā)明公開(kāi)了一種核殼量子點(diǎn)及其制備方法、量子點(diǎn)光電器件。其中,核殼量子點(diǎn)的制備方法包括以下步驟提供包含第一陽(yáng)離子的初始量子點(diǎn);將初始量子點(diǎn)與第二陽(yáng)離子的前體以及第三陽(yáng)離子的前體混合形成混合體系,其中第二陽(yáng)離子的前體用于形成殼層,第三陽(yáng)離子用于促進(jìn)第一陽(yáng)離子向外擴(kuò)散;向混合體系中加入用于形成殼層的陰離子前體,陰離子前體與第二陽(yáng)離子的前體以及初始量子點(diǎn)中擴(kuò)散出來(lái)的第一陽(yáng)離子反應(yīng)形成合金殼層,制得核殼量子點(diǎn)。本發(fā)明獲得的核殼量子點(diǎn)中,殼層的合金化程度高;更有利于獲得短波長(zhǎng)發(fā)射的核殼量子點(diǎn);核殼量子點(diǎn)的合成方法簡(jiǎn)單,重復(fù)性好,反應(yīng)時(shí)間短。

 

(記者 湯輝)

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