每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司宇迪光學（831934）新增專利信息，專利權(quán)人為宇迪光學，發(fā)明人是冒建軍、冒晶晶。專利授權(quán)日為2024年6月21日，專利名稱為“一種流量可控式雙面研磨機及平面鏡加工設(shè)備”，專利類型為中國實用新型專利，專利申請?zhí)枮镃N202322599074.9。

該專利摘要顯示：本實用新型屬于平面鏡加工的技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種流量可控式雙面研磨機及平面鏡加工設(shè)備。所述雙面研磨機包括下研磨盤和上研磨盤，所述上研磨盤的上部周向上貫穿有若干個輸送管且其頂部通過輸送管連通有儲液盤，所述儲液盤內(nèi)部安裝有液位傳感器且其頂部扣合有蓋板，所述蓋板上開設(shè)有輸液孔并通過輸液孔貫穿連接有輸液管，所述輸液管通過輸液孔貫穿蓋板并延伸至儲液盤內(nèi)部且其端部通過儲液盤與輸送管連通設(shè)置，所述輸送管的端部貫穿上研磨盤且其出口與下研磨盤連通設(shè)置。本實用新型無需人工判斷輸送流量，解決了因人工判斷操作失誤而造成研磨液或磨削液溢出污染環(huán)境的問題，保證了平面鏡的打磨效果以及雙面研磨機的使用壽命。

(記者 曾健輝)

免責聲明：本文內(nèi)容與數(shù)據(jù)僅供參考，不構(gòu)成投資建議，使用前核實。據(jù)此操作，風險自擔。