每經記者 朱成祥    每經編輯 梁梟    

近期，工信微報微信公眾號發(fā)文披露《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》。其中，在電子專用設備一欄，氟化氪光刻機、氟化氬光刻機位列其中。該資料顯示，氟化氬光刻機具有65納米以下的分辨率和8納米以下的套刻精度。

據東興證券研報，光刻機可分為直寫光刻機與掩膜光刻機，市場主流有i-Iine（汞線）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氬）、ArFi（浸潤式氟化氬）、EUV（極紫外）五大類。

此次入選推廣目錄的氟化氬光刻機，應屬于干式ArF光刻機。在具體指標上，與ASML旗下TWINSCAN NXT：1470 以及TWINSCAN XT：1460K類似。

國產光刻機實力幾何？

據工信微報發(fā)文，此次指導目錄是為促進首臺（套）重大技術裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應用，加強產業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同。

具體來看，氟化氪光刻機晶圓直徑為300mm（12英寸），照明波長為248mm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。相比之下，阿斯麥（ASML）的氟化氪光刻機型號有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N 和 TWINSCAN XT：860M。這三個型號，波長均為248mm，分辨率≤110nm。

而指導目錄中更為先進的氟化氬光刻機，其照明波長為193mm，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。這一數據與ASML旗下TWINSCAN XT：1460K 最為接近。該型號照明波長為193mm，分辨率≤65nm。此外，該系統(tǒng)可以在偏振照明下實現(xiàn)低至57nm的生產分辨率。

相比之下，ASML浸潤式光刻機TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。據民生證券研報，該型號可實現(xiàn)2.5nm的套刻精度（MMO）。

據東海證券援引ASML官網數據，2023年各類光刻機均價為：EUV（17386萬歐元）、ArFi（7196萬歐元）、ArFdry（2742萬歐元）、KrF（1192萬歐元）、i-Iine（399萬歐元）。

東海證券認為，目前光刻機國產化率僅為2.5%，整機技術與海外差距較大，5~10 年內90nm、28nm光刻機的研發(fā)量產較為關鍵。

光刻機產業(yè)鏈亟須發(fā)展

東海證券稱，根據中國國際招標網信息，半導體設備招標中，刻蝕、沉積等核心設備的國產化率獲得了較大的提升，核心在于技術上我國相關企業(yè)已經逐步追趕上海外企業(yè)；但光刻機作為核心設備，國產化率不足3%，核心原因在于零組件供應與整機技術與海外差距較大。

9月18日，東方財富概念板塊中，光刻機（膠）板塊排名靠前，板塊整體漲幅達2.47%。其中，同飛股份、波長光電均收獲20%漲停；新萊應材上漲12.40%。此外，張江高科、海立股份、凱美特氣等也漲停。

張江高科受關注，主要因為其曾投資上海微電子。張江高科于9月10日在投資者交流平臺表示，公司通過子公司上海張江浩成創(chuàng)業(yè)投資有限公司投資了上海微電子2.23億元，持有上海微電子10.779%的股權，后續(xù)未增持或減持。

東興證券稱，上海微電子是我國第一家也是目前唯一的光刻機巨頭，出貨量占國內市場份額超過80%，產品主要涉及ArF、KrF和i-line領域，其已具備90nm及以下的芯片制造能力。

光刻機零部件方面，同飛股份曾在2023年中報表示，其液體恒溫設備在半導體制造設備領域，主要應用于光刻機、刻蝕機、研磨拋光機等關鍵設備的溫度控制。

不過，根據東興證券研報，光刻機核心組件包括光源系統(tǒng)、雙工作臺、物鏡系統(tǒng)、對準系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)、浸沒系統(tǒng)、光柵系統(tǒng)等。配套設施包括光刻膠、掩膜版、涂膠顯影等。

光源系統(tǒng)方面，據華金證券，針對準激光光源，科益虹源主要研發(fā)248nm準分子激光器、干式193nm準分子激光器等；福晶科技研發(fā)KBBF晶體。

另據東興證券，波長光電為國內激光光學元件的主要供應商，目前，公司已具備提供光刻機配套的大孔徑光學鏡頭的能力，公司成功開發(fā)的光刻機平行光源系統(tǒng)可用于國產光刻機領域配套。

波長光電曾于2023年9月15日披露投資者活動記錄表稱，公司在半導體領域主要涉及兩個領域：一個是生產領域，即曝光機、光刻，公司可提供大口徑光學鏡頭用于檢測，做折反、投射，還可以提供平行光源系統(tǒng)；另一個是檢測領域，公司可提供檢測設備上的光學元件、組件，也可為客戶定制開發(fā)、裝調子系統(tǒng)。

物鏡系統(tǒng)方面，東興證券稱，茂萊光學光刻機曝光物鏡超精密光學元件加工技術已實現(xiàn)產業(yè)化。

東海證券研報顯示，中國2023年進口光刻機數量高達225臺，進口金額高達87.54億美元，進口金額創(chuàng)下歷史新高，預計3~5年內我國光刻機仍主要依賴進口。一臺先進的光刻機有多達10萬個零部件，整體來看我國半導體零組件的國產化率非常低，盡管在各個賽道均有相關的國有企業(yè)在不斷發(fā)展，但距離海外企業(yè)依然有較大的差距，同時也預示著國內零組件企業(yè)公司有較大的發(fā)展機遇。