每經(jīng)記者 朱成祥    每經(jīng)編輯 梁梟    

近期，工信微報(bào)微信公眾號發(fā)文披露《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》。其中，在電子專用設(shè)備一欄，氟化氪光刻機(jī)、氟化氬光刻機(jī)位列其中。該資料顯示，氟化氬光刻機(jī)具有65納米以下的分辨率和8納米以下的套刻精度。

據(jù)東興證券研報(bào)，光刻機(jī)可分為直寫光刻機(jī)與掩膜光刻機(jī)，市場主流有i-Iine（汞線）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氬）、ArFi（浸潤式氟化氬）、EUV（極紫外）五大類。

此次入選推廣目錄的氟化氬光刻機(jī)，應(yīng)屬于干式ArF光刻機(jī)。在具體指標(biāo)上，與ASML旗下TWINSCAN NXT：1470 以及TWINSCAN XT：1460K類似。

國產(chǎn)光刻機(jī)實(shí)力幾何？

據(jù)工信微報(bào)發(fā)文，此次指導(dǎo)目錄是為促進(jìn)首臺（套）重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用，加強(qiáng)產(chǎn)業(yè)、財(cái)政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同。

具體來看，氟化氪光刻機(jī)晶圓直徑為300mm（12英寸），照明波長為248mm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。相比之下，阿斯麥（ASML）的氟化氪光刻機(jī)型號有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N 和 TWINSCAN XT：860M。這三個型號，波長均為248mm，分辨率≤110nm。

而指導(dǎo)目錄中更為先進(jìn)的氟化氬光刻機(jī)，其照明波長為193mm，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。這一數(shù)據(jù)與ASML旗下TWINSCAN XT：1460K 最為接近。該型號照明波長為193mm，分辨率≤65nm。此外，該系統(tǒng)可以在偏振照明下實(shí)現(xiàn)低至57nm的生產(chǎn)分辨率。

相比之下，ASML浸潤式光刻機(jī)TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。據(jù)民生證券研報(bào)，該型號可實(shí)現(xiàn)2.5nm的套刻精度（MMO）。

據(jù)東海證券援引ASML官網(wǎng)數(shù)據(jù)，2023年各類光刻機(jī)均價(jià)為：EUV（17386萬歐元）、ArFi（7196萬歐元）、ArFdry（2742萬歐元）、KrF（1192萬歐元）、i-Iine（399萬歐元）。

東海證券認(rèn)為，目前光刻機(jī)國產(chǎn)化率僅為2.5%，整機(jī)技術(shù)與海外差距較大，5~10 年內(nèi)90nm、28nm光刻機(jī)的研發(fā)量產(chǎn)較為關(guān)鍵。

光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈亟須發(fā)展

東海證券稱，根據(jù)中國國際招標(biāo)網(wǎng)信息，半導(dǎo)體設(shè)備招標(biāo)中，刻蝕、沉積等核心設(shè)備的國產(chǎn)化率獲得了較大的提升，核心在于技術(shù)上我國相關(guān)企業(yè)已經(jīng)逐步追趕上海外企業(yè)；但光刻機(jī)作為核心設(shè)備，國產(chǎn)化率不足3%，核心原因在于零組件供應(yīng)與整機(jī)技術(shù)與海外差距較大。

9月18日，東方財(cái)富概念板塊中，光刻機(jī)（膠）板塊排名靠前，板塊整體漲幅達(dá)2.47%。其中，同飛股份、波長光電均收獲20%漲停；新萊應(yīng)材上漲12.40%。此外，張江高科、海立股份、凱美特氣等也漲停。

張江高科受關(guān)注，主要因?yàn)槠湓顿Y上海微電子。張江高科于9月10日在投資者交流平臺表示，公司通過子公司上海張江浩成創(chuàng)業(yè)投資有限公司投資了上海微電子2.23億元，持有上海微電子10.779%的股權(quán)，后續(xù)未增持或減持。

東興證券稱，上海微電子是我國第一家也是目前唯一的光刻機(jī)巨頭，出貨量占國內(nèi)市場份額超過80%，產(chǎn)品主要涉及ArF、KrF和i-line領(lǐng)域，其已具備90nm及以下的芯片制造能力。

光刻機(jī)零部件方面，同飛股份曾在2023年中報(bào)表示，其液體恒溫設(shè)備在半導(dǎo)體制造設(shè)備領(lǐng)域，主要應(yīng)用于光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、研磨拋光機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備的溫度控制。

不過，根據(jù)東興證券研報(bào)，光刻機(jī)核心組件包括光源系統(tǒng)、雙工作臺、物鏡系統(tǒng)、對準(zhǔn)系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)、浸沒系統(tǒng)、光柵系統(tǒng)等。配套設(shè)施包括光刻膠、掩膜版、涂膠顯影等。

光源系統(tǒng)方面，據(jù)華金證券，針對準(zhǔn)激光光源，科益虹源主要研發(fā)248nm準(zhǔn)分子激光器、干式193nm準(zhǔn)分子激光器等；福晶科技研發(fā)KBBF晶體。

另據(jù)東興證券，波長光電為國內(nèi)激光光學(xué)元件的主要供應(yīng)商，目前，公司已具備提供光刻機(jī)配套的大孔徑光學(xué)鏡頭的能力，公司成功開發(fā)的光刻機(jī)平行光源系統(tǒng)可用于國產(chǎn)光刻機(jī)領(lǐng)域配套。

波長光電曾于2023年9月15日披露投資者活動記錄表稱，公司在半導(dǎo)體領(lǐng)域主要涉及兩個領(lǐng)域：一個是生產(chǎn)領(lǐng)域，即曝光機(jī)、光刻，公司可提供大口徑光學(xué)鏡頭用于檢測，做折反、投射，還可以提供平行光源系統(tǒng)；另一個是檢測領(lǐng)域，公司可提供檢測設(shè)備上的光學(xué)元件、組件，也可為客戶定制開發(fā)、裝調(diào)子系統(tǒng)。

物鏡系統(tǒng)方面，東興證券稱，茂萊光學(xué)光刻機(jī)曝光物鏡超精密光學(xué)元件加工技術(shù)已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。

東海證券研報(bào)顯示，中國2023年進(jìn)口光刻機(jī)數(shù)量高達(dá)225臺，進(jìn)口金額高達(dá)87.54億美元，進(jìn)口金額創(chuàng)下歷史新高，預(yù)計(jì)3~5年內(nèi)我國光刻機(jī)仍主要依賴進(jìn)口。一臺先進(jìn)的光刻機(jī)有多達(dá)10萬個零部件，整體來看我國半導(dǎo)體零組件的國產(chǎn)化率非常低，盡管在各個賽道均有相關(guān)的國有企業(yè)在不斷發(fā)展，但距離海外企業(yè)依然有較大的差距，同時也預(yù)示著國內(nèi)零組件企業(yè)公司有較大的發(fā)展機(jī)遇。